โซลซิลิกานี้ มีข้อดีแข่งขันหลัก ได้แก่ ความบริสุทธิ์สูงอุลตร้า ขนาดอนุภาคที่ปรับแต่งได้ ความมีประสิทธิภาพในการขัดสูง และความเสียหายต่อพื้นฐานที่น้อยที่สุด ผลิตภัณฑ์นี้สอดคล้องกับมาตรฐานอุตสาหกรรมกึ่งตัวนำอินเตอร์เนชันแนล SEMI โดยมีปริมาณมลพิษโลหะรวม ≤10 ppb ซึ่งจะไม่ทำให้อุปกรณ์การผลิตกึ่งตัวนำมีมลพิษหรือส่งผลต่อประสิทธิภาพของอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ การกระจายขนาดอนุภาคที่สม่ำเสมอทำให้ผลการขัดที่เสถียร ลดความหยาบของพื้นผิววัสดุพื้นฐานไปจนถึงระดับนาโนเมตร และเพิ่มอัตราผลผลิตของการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์
พารามิเตอร์ทางเทคนิคหลัก ได้แก่ เนื้อหา SiO2 30±0.3 wt% ขนาดอนุภาคที่ปรับแต่งได้ตั้งแต่ 5 ถึง 15 นาโนเมตร ปริมาณมลพิษโลหะรวม ≤10 ppb ซึ่งสอดคล้องกับมาตรฐาน SEMI ความหนืด 4-12 mPa·s ค่า pH ระหว่าง 9.5 ถึง 11.0 ปริมาณแอมโมเนียคงเหลือ ≤50 ppm อายุการเก็บสินค้า 24 เดือน ลักษณะภายนอกเป็นของเหลวโปร่งแสงไม่มีสี ความหนาแน่นลวงที่ 1.20 g/cm³ และไม่มีจุดระเบิดเนื่องจากเป็นสารละลายน้ำ สามารถปรับแต่งตามความต้องการขัดเฉพาะของลูกค้า ได้แก่ การปรับขนาดอนุภาคและความเข้มข้น
ผลิตภัณฑ์นี้ใช้งานอย่างกว้างขวางในการขัดกลไกเคมี (CMP) ของแผ่นวเฟอร์กึ่งตัวนำ การขัดพื้นฐานซัฟไฟร์ LED การขัดแก้วหน้าจอสัมผัส การประมวลผลพื้นผิววัสดุบรรจุหีบห่ออิเล็กทรอนิกส์และอุตสาหกรรมผลิตอิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ ผลิตภัณฑ์นี้ส่งมอบหลักไปยังโรงงานผลิตแผ่นวเฟอร์กึ่งตัวนำ บริษัทผลิต LED บริษัทประมวลผลหน้าจอสัมผัสและอุตสาหกรรมผลิตอิเล็กทรอนิกส์เทคโนโลยีสูงอื่นๆ เพื่อช่วยเพิ่มคุณภาพผลิตภัณฑ์และอัตราผลผลิต
โพสต์ RFQ
แชท
ทุกหมวดหมู่